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GMS2000车间用口服液胶体磨
车间用口服液胶体磨,口服液车间一般产量要求比较高，对于胶体磨的流量范围有很大的要求。应对口服液车间，我们设计了GMS2000系列产品，用小试到中试，再到工业化大生产，都能满足，并且保证各个型号的线速度一致，从而达到效果上的一致。 参考价￥87000 -
GRS2000鱼骨高汤乳化机
鱼骨高汤乳化机，调和槽内汤液杀菌时间到后，就送到下道工序进行均质乳化，均质乳化要保证送料均匀，均质乳化机的转速要稳定，不宜出现大范围的波动。结合客户案例一般采用GRS2000系列超高速均质乳化机，转速稳定在11000rpm，效果佳 参考价￥85000 -
GMSD2000纳米铁氧体/石墨烯基电磁屏蔽涂料分散机
纳米铁氧体/石墨烯基电磁屏蔽涂料分散机，研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。 参考价￥103500 -
GRS2000头孢噻呋水针剂超高速胶体磨
头孢噻呋水针剂超高速胶体磨，液体制剂混悬型的稳定在于使用的胶体磨的研磨性能，普通胶体磨转速3000rpm，研磨出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，*限制了新型*混悬液的推广，上海思峻高剪切胶体磨GMS2000系列转速高达18000rpm，是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 参考价￥88210 -
GRS2000燕窝液态破壁高剪切均质机
燕窝液态破壁高剪切均质机，GRS2000模块主要由三层均质头构成，工作时，物料通过进料口进入分散腔，首先到达一层均质头进行处理，由于马达带动转子齿列高速运转，产生涡流和离心力效应使得物料轴向吸入分散头，然后沿着定-转子之间的缝隙被高速压出完成次剪切作用，完成均质。 参考价￥89210 -
GMSD2000聚酰亚胺薄膜研磨分散机
聚酰亚胺薄膜研磨分散机，上海思峻的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。搅拌与研磨一体，研磨效果好，能减少物料使用量，能降低生产成本。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。 参考价￥103400 -
GMS2000生物活性炭材料制备剪切研磨设备
生物活性炭材料制备剪切研磨设备，可以很好的解决颗粒或粉体浆料易团聚、分散细化不均匀等问题，其已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、活性炭、纳米粉体、高分子材料等多种新材料的制备应用上。CMS2000系列的胶体磨（锥体磨）分散头的组合,可以先将物料（配入溶剂和分散剂）研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备。 参考价￥89210 -
GRS2000*高剪切胶体磨
*高剪切胶体磨，SGN高剪切纳米胶体磨针对上述存在的缺陷而提供一种电池级*的制备方法。在纳米胶体磨沉锂和析钠过程中，既可以提高沉锂效率，又可以减少析钠过程锂损失，操作简单、安全性高。 参考价面议 -
GMSD2000高分子导热材料高剪切分散机
高分子导热材料高剪切分散机，在填料改性高分子材料是，如何将填料充分分散到高分子基料，成为了一大难题。已纳米材料为例，如：石墨烯、纳米氧化铝等作为填料时，一般都难以分散，容易团聚，但是结合我司多年经验及案例，除了分散剂的选择外，要想更好的分散，必须采用高品质的分散设备，在此我们*GMSD2000超高速剪切分散机应用于高分子材料的分散。 参考价面议 -
GMS2000大豆多糖胶高剪切胶体磨
大豆多糖胶高剪切胶体磨，通过SGN高剪切研磨机均质、粉碎，然后高温酸法提取、高速离心、膜分离纯化、浓缩、喷雾干燥等现代*生产出高品质的大豆多糖胶产品。 参考价面议 -
GRS2000卤汁酱料高剪切乳化机
卤汁酱料高剪切乳化机，酱卤过程中，长时间接触锅的产品可能会发生粘锅现象，因此有时也在肉的下面垫上箅子或不锈钢网，将肉与锅隔开，从而避免产品粘锅。而SGN高剪切乳化机，可以很好的将油水乳化，将各种添加剂充分细化均匀，粒径分布均匀，混悬均质的*，不易分层，析油，使产品味道美味。 参考价面议 -
GRS2000科研高分子材料研磨均质机
科研高分子材料研磨均质机，SGN高剪切研磨均质机在处理高分子材料时选用GMS+8SF的工作头，设备通冷却水，高分子材料一次处理下来，就可以达到200目。经过筛滤之后，*了该药业集团的要求。 参考价面议